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- Patent- und Designrecht. PatR
- Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und Designrecht
- 978-3-423-53303-4
- dtv
- 18. Aufl. 2025
- Textsammlung
- soeben erschienen
inkl. MwSt.
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Beschreibung:
Inhalt
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS
Die 18. Auflage enthält die neue EG-MusterschutzRL und berücksichtigt u.a. Änderungen des PatentG, der AusführungsO zum EPÜ, des EPGÜ, der Gem.-GeschmacksmusterVO und der HaagAbkAO